Brand:

Bioderma Atoderma Vaj Dushi për Lëkura të Thata 200 ml

2.387,00 L 1.909,60 L

Bioderma Atoderm Vaj Dushi ofron 24 orë hidratim, zbutje dhe mbrojtje që në dush falë biolipideve vegjetale, Vitaminës PP dhe patentës Skin Barrier Therapy™, duke respektuar edhe lëkurat më të ndjeshme.

Përbërësit + -

AQUA/WATER/EAU, GLYCERIN, PEG-7 GLYCERYL COCOATE, SODIUM COCOAMPHOACETATE, LAURYL GLUCOSIDE, COCO-GLUCOSIDE, GLYCERYL OLEATE, CITRIC ACID, PEG-90 GLYCERYL ISOSTEARATE, FRAGRANCE (PARFUM), MANNITOL, POLYSORBATE 20, XYLITOL, LAURETH-2, RHAMNOSE, NIACINAMIDE, FRUCTOOLIGOSACCHARIDES, TOCOPHEROL, HYDROGENATED PALM GLYCERIDES CITRATE, LECITHIN, ASCORBYL PALMITATE. [BI 725]

Përshkrimi

24 orë hidratim dhe komfort i menjëhershëm që në dush.

Atoderm Vaj Dushi zbut dhe mbron nga sulmet e jashtme falë formulës ekskluzive me biolipide vegjetale, Vitamine PP dhe patentën Barrier Skin Therapy. Pastron, rivendos lipidet dhe zbut.

-Biolipidet vegjetale ( esteret e kokosit dhe lulediellit) zbusin ndjesinë e tërheqjes, rrisin rezistencën e lëkurës duke krijuar një film mbrojtës në lëkurë.
-Vitamina PP duke stimuluar sintezën e lipideve, lejon rivendosjen e barrierës së lëkurës për një kohë të gjatë.
-Patenta Skin Barrier therapy™ parandalon biologjikisht zhvillimin e baktereve (Staphylococcus aureus) përgjegjës për agravimin e irritimit të lëkurës.
-Kompleksi natyral DAF rrit pragun e tolerancës së lëkurës.

Ky vaj është kremoz dhe i mëndafshtë, i  parfumuar lehtë dhe jo i yndyrshëm. Kjo shkumë fine është e dizenjuar për të respektuar edhe lëkurat më të ndjeshme. E përshtatshme për të gjithë familjen.

-Hipoalergjik
-Tolerance ekselente e lëkurës dhe syve
-Jo komedogjenike
-Nuk djeg sytë
-Pa paraben
-Pa konservantë
-Pa sapun
-Pa ngjyrues

Udhëzime mbi përdorimin

Aplikojeni në dush në lëkurë të lagur, masazhojeni dhe shplajeni. Për rezultate më të mira aplikoni një krem Atoderm pas dushi.

There are no reviews yet.

Be the first to review “Bioderma Atoderma Vaj Dushi për Lëkura të Thata 200 ml”

Your email address will not be published. Required fields are marked *