Brand: ,

Kérastase Symbiose Masque Revitalisant Essentiel 200 ml

7.000,00 L 6.300,00 L

Kérastase Symbiose Revitalisant Essentiel është një maskë hidratuese që ushqen, qetëson dhe forcon flokët me tendencë zbokthi, duke rikthyer butësinë dhe shkëlqimin pa i rënduar.

Përbërësit + -

Aqua / Water / Eau • Cetearyl Alcohol • Amodimethicone • Glycerin • Behentrimonium Chloride • Cetyl Esters • Parfum / Fragrance • Trideceth-5 • Phenoxyethanol • Isopropyl Alcohol • Sodium Hydroxide • Trideceth-6 • Limonene • Trideceth-10 • Squalane • Salicylic Acid • Bifida Ferment Lysate • Cetrimonium Chloride • Benzyl Salicylate • Acetic Acid • Benzyl Alcohol • Linalool • Citronellol • Citral • Geraniol • Artemisia Umbelliformis Flower Extract • Sodium Benzoate • Citric Acid • Potassium Sorbate

Përshkrimi

Kérastase Symbiose Revitalisant Essentiel është një maskë flokësh thellësisht hidratuese, e krijuar për flokë me tendencë zbokthi dhe skalp të ndjeshëm. E pasur me përbërës aktivë që qetësojnë, forcojnë dhe hidratojnë flokët pa i rënduar, kjo maskë është ideale për të rikthyer butësinë dhe shkëlqimin natyral të flokëve, ndërkohë që ndihmon në ruajtjen e ekuilibrit të lëkurës së kokës.

Karakteristikat kryesore:
-Hidratim intensiv: Ushqen dhe zbut flokët në thellësi pa i bërë të yndyrshëm.
-Qetëson skalpin: Redukton ndjeshmërinë, kruarjen dhe parehatinë e lëkurës së kokës.
-Rikthen elasticitetin: Forcon fibrën e flokut, duke ndihmuar në parandalimin e thyerjes.
-Teksturë e butë dhe luksoze: Lehtë për t’u shpërndarë dhe përthithur nga flokët.
-E përshtatshme për përdorim të shpeshtë: E sigurt për çdo lloj flokësh, përfshirë ato të trajtuar kimikisht.

Përbërësit aktivë:-
-Glicerinë: Hidraton intensivisht flokun dhe skalpin.
-Acid salicilik: Ndihmon në pastrimin e skalpit dhe ruajtjen e balancës së tij.
-Ushqyes bimorë dhe vajra natyralë: Sigurojnë butësi, ndriçim dhe mbrojtje kundër dëmtimeve.

There are no reviews yet.

Be the first to review “Kérastase Symbiose Masque Revitalisant Essentiel 200 ml”

Your email address will not be published. Required fields are marked *