Brand:

L’Oréal Professionnel Absolut Repair Molecular Repairing Leave-In Mask 100 ml

3.800,00 L 3.420,00 L

MaskA Absolut Repair Molecular riparon dhe rindërton strukturën molekulare të flokëve, duke ofruar forcë, butësi dhe mbrojtje nga nxehtësia deri në 230°C.

Përbërësit + -

Aqua/Water/Eau, Isopropyl Myristate, Dimethicone, Amodimethicone, Triethanolamine, Phenoxyethanol, Carbomer, Polyquaternium-4, Potato Starch Modified, Hydroxypropyl Guar, Behentrimonium Chloride, Arginine, Trideceth-6, Isopropyl Alcohol, Cetrimonium Chloride, Linalool, Glycine, Serine, Tyrosine, Citric Acid, Glutamic Acid, Coumarin, Benzyl Alcohol, Benzyl Benzoate, Alpha-Isomethyl Ionone, Parfum/Fragrance.

Përshkrimi

Riparon dhe mbron flokët. Mbrojtje nga nxehtësia deri në 230°C*.

Kur flokët dëmtohen, struktura e tyre molekulare, e përbërë nga peptide, kompromentohet. Flokët thyhen, bëhen shumë elastikë, pa lëvizje.
Por shumica e peptideve janë shumë të mëdha për t’u riinjektuar në fibra, duke e bërë dëmtimin pothuajse të pakthyeshëm.

Për herë të parë, L’Oréal Advanced Research arriti të dekompozojë peptidet, për të injektuar përbërësit e tyre veçmas në fibra.
Pasi futen brenda, ato riformojnë dhe rindërtojnë strukturën molekulare të flokut³.

Për të gjitha teksturat e flokëve të dëmtuar, të lyer, të çelur dhe natyralë.

Teknologji e patentuar:

Kjo mask e patentuar, e formuluar me Peptide lidhëse + 5 Aminoacide, riparon strukturën makromolekulare të flokëve.
Flokët janë më të fortë dhe të ushqyer, me elasticitet të përmirësuar, lëvizje dhe + 86% butësi.

Përdorimi:

Aplikojeni në flokë të pastër dhe të tharë me peshqir.
Shtypni dy deri në tre doza të palejueshme në duar.
Shpërndajeni në mënyrë të barabartë në secilën pjesë të flokëve nga gjatësia deri te majat.
Vazhdoni të stiloni flokët si zakonisht.

I kompletuar me sistemin e plotë Absolut Repair Molecular për rezultate maksimale.

There are no reviews yet.

Be the first to review “L’Oréal Professionnel Absolut Repair Molecular Repairing Leave-In Mask 100 ml”

Your email address will not be published. Required fields are marked *